Horno de vacío

• ● Secado al vacío para eliminar la humedad y el solvente de los materiales del electrodo.
• ● La temperatura máxima de 300 ℃/400 ℃ es opcional
• ● Rango de vacío operativo 101kPa -1Pa ● Disponible en 3 tamaños, gran capacidad

Gran horno de secado al vacío diseñado para todo tipo de propósitos de secado al vacío.

• ● Temperatura máxima 250℃
• ● Rango de vacío operativo 101 kPa -0,1 kPa

Este horno es ideal para eliminar agua residual, solventes u otros compuestos volátiles de productos sensibles a la temperatura. La bomba de vacío se instalará en la parte inferior del horno para ahorrar espacio de instalación con tuberías de brida de conexión rápida. Este tipo de horno se usa ampliamente en laboratorios, semiconductores, MEMS y áreas electrónicas.

Las 9 cámaras se controlan de forma independiente y comparten un sistema de vacío. Es adecuado para todo tipo de materiales metálicos, anaeróbicos, materias primas químicas, metales preciosos, polvos metálicos y otros productos sólidos, en polvo, en pasta, líquidos y electrónicos.

• ● Control independiente de 9 cámaras
• ● Almacenar temporalmente productos durante el proceso de producción de dispositivos electrónicos, dispositivos optoelectrónicos, chips semiconductores y otros dispositivos para evitar la oxidación.
• ● Vacío mínimo de 50 a 5*10-5 Pa
• ● Lector de código de barras para almacenar información del producto