અતિ-ઉચ્ચ તાપમાન નિષ્ક્રિય ગેસ ઓવન એ ઉદ્યોગોમાં નિર્ણાયક સાધનો છે જ્યાં નિષ્ક્રિય વાતાવરણમાં ઉચ્ચ-તાપમાન પ્રક્રિયા જરૂરી છે, જે પ્રક્રિયા કરવામાં આવતી સામગ્રીની ગુણવત્તા અને અખંડિતતાને સુનિશ્ચિત કરે છે. તે આર્ગોન, કાર્બન ડાયોક્સાઇડ, હિલીયમ અને નાઈટ્રોજન જેવા નિષ્ક્રિય વાયુઓમાં વાતાવરણ માટે લાગુ પડે છે. ઓપન-એર હેવી-ગેજ નિક્રોમ વાયર હીટર તત્વો 600 ડિગ્રી સુધી મજબૂત ગરમીનો સ્ત્રોત પૂરો પાડે છે. એક અનન્ય ડ્યુઅલ-શેલ ડિઝાઇન નિષ્ક્રિય ગેસથી ભરેલા આંતરિક ચેમ્બરની આસપાસ શીતક અને આસપાસની હવાના પરિભ્રમણ માટે પરવાનગી આપે છે, સ્થિર આંતરિક દબાણ અને તાપમાન જાળવી રાખે છે.

નિષ્ક્રિય ગેસ ઓવન ઔદ્યોગિક પકાવવાની નાની ભઠ્ઠી એપ્લિકેશન માટે આદર્શ છે જેમાં ભેજ સૂકવવા, વેફર સૂકવવા, સેમિકન્ડક્ટર પેકેજિંગ માટે રેઝિન ક્યોરિંગ અને ઇલેક્ટ્રોનિક ઘટકો અને ઉપકરણોની વૃદ્ધત્વ સહિત નિયંત્રિત વાતાવરણમાં પ્રક્રિયા સામગ્રીનો સમાવેશ થાય છે.

● 1 ચેમ્બર અથવા 2 ચેમ્બર પ્રકારો (દરેક ચેમ્બર માટે એકલ નિયંત્રણ)
● મહત્તમ. 260℃
●O2 સાંદ્રતા 50ppm નીચે

સેમિકન્ડક્ટર વેફર્સ (ફોટોરિસ્ટ પીઆઈ, પીબીઓ, બીસીબી ક્યોરિંગ), ગ્લાસ સબસ્ટ્રેટ બેકિંગ અને ઉચ્ચ-ચોકસાઇવાળા એનેલીંગ ટ્રીટમેન્ટ વગેરે માટે યોગ્ય.

સ્વચ્છ ઓવનનો ઉપયોગ હીટ ટ્રીટમેન્ટ અથવા સેમિકન્ડક્ટર વેફર્સ, લિક્વિડ ક્રિસ્ટલ્સ, ડિસ્ક અને અન્ય ઘટકો અને ઉપકરણોને સૂકવવા માટે વ્યાપકપણે થાય છે જેને સ્વચ્છ હવાની સ્થિતિની જરૂર હોય છે.

• ● વર્ગ 100
• ● 350L મોટી ક્ષમતા
• ● મહત્તમ. તાપમાન 260 ℃

• ● ઇલેક્ટ્રોડ સામગ્રીમાં ભેજ અને દ્રાવકને દૂર કરવા માટે વેક્યુમ સૂકવણી.
• ● મહત્તમ. તાપમાન 300℃/400℃ વૈકલ્પિક છે
• ● ઓપરેટિંગ વેક્યુમ રેન્જ 101kPa -1Pa● 3 કદમાં ઉપલબ્ધ, મોટી ક્ષમતા

વેક્યુમ ડ્રાયિંગ ઓવન તમામ પ્રકારના વેક્યૂમ ડ્રાયિંગ હેતુ માટે રચાયેલ છે.

• ● મહત્તમ. તાપમાન 250 ℃
• ● ઓપરેટિંગ વેક્યુમ રેન્જ 101kPa -0.1kPa

આ પકાવવાની નાની ભઠ્ઠી તાપમાન-સંવેદનશીલ ઉત્પાદનોમાંથી શેષ પાણી, દ્રાવકો અથવા અન્ય અસ્થિર સંયોજનોને દૂર કરવા માટે આદર્શ છે. ઝડપી કનેક્શન ફ્લેંજ પાઇપિંગ સાથે ઇન્સ્ટોલેશનની જગ્યા બચાવવા માટે ઓવનના ડાઉનસાઇડમાં વેક્યુમ પંપ ઇન્સ્ટોલ કરવામાં આવશે. આ પ્રકારના પકાવવાની નાની ભઠ્ઠી લેબ, સેમિકન્ડક્ટર, MEMS અને ઇલેક્ટ્રોનિક વિસ્તારમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે.

9 ચેમ્બર સ્વતંત્ર રીતે નિયંત્રિત છે અને વેક્યૂમ સિસ્ટમનો એક સેટ શેર કરે છે. તે તમામ પ્રકારની ધાતુની સામગ્રી, એનારોબિકનારોબિક, રાસાયણિક કાચી સામગ્રી, કિંમતી ધાતુઓ, મેટલ પાવડર અને અન્ય નક્કર, પાવડર, પેસ્ટ, પ્રવાહી, ઇલેક્ટ્રોનિક ઉત્પાદનો માટે યોગ્ય છે.

• ● 9-ચેમ્બર્સ એકલ નિયંત્રણ
• ● ઓક્સિડેશનને રોકવા માટે ઈલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો, ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો, સેમિકન્ડક્ટર ચિપ્સ અને અન્ય ઉપકરણોની ઉત્પાદન પ્રક્રિયા દરમિયાન ઉત્પાદનોને અસ્થાયી રૂપે સંગ્રહિત કરો
• ● ન્યૂનતમ.50 થી 5*10-5Pa વેક્યૂમ
• ● ઉત્પાદન માહિતી સંગ્રહિત કરવા માટે બારકોડ સ્કેનર

GMS સ્ટેનલેસ સ્ટીલ ઔદ્યોગિક ઓવન 200℃ સુધીની વિવિધ થર્મલ પ્રોસેસિંગ એપ્લિકેશનને સમાવી શકે છે. ઔદ્યોગિક ઓવન ડ્રમ હીટિંગ, એજિંગ, કોર સખ્તાઇ, સૂકવણી, પ્રીહિટીંગ, ક્યોરિંગ અને ઘટક પરીક્ષણ માટે આદર્શ રીતે અનુકૂળ છે.

• ● સ્વચ્છ વર્કશોપ અથવા કાટ લાગતા વાતાવરણ માટે સ્ટેનલેસ સ્ટીલ સામગ્રી
• ● મહત્તમ. ટેમ્પ. 200°C
• ● ફોર્સ્ડ કન્વેક્શન પ્રકાર

• ● ઉત્પાદનોની થર્મલ સારવાર માટે યોગ્ય
• ● ઉત્પાદન લાઇન પર સેટ, કન્વેયર ઓવન ઉત્પાદન કાર્યક્ષમતામાં ઘણો સુધારો કરે છે
• ● સંપૂર્ણ સ્વચાલિત નિયંત્રણ
• ● કન્વેયર ઝડપ એડજસ્ટેબલ છે અને બહુવિધ સારવાર પ્રક્રિયા જોવા માટે સક્ષમ છે
• ● ફ્રીક્વન્સી કન્વર્ટર, સ્ટેક લાઇટ, સિલિન્ડર વગેરેથી સજ્જ.
• ● અપસ્ટ્રીમ અને ડાઉનસ્ટ્રીમ સાધનો સાથે જોડાવા માટે આપોઆપ લોડ અને અનલોડ સિસ્ટમ

9 ચેમ્બર સ્વતંત્ર રીતે નિયંત્રિત છે અને વેક્યૂમ સિસ્ટમનો એક સેટ શેર કરે છે. તે તમામ પ્રકારની ધાતુની સામગ્રી, એનારોબિકનારોબિક, રાસાયણિક કાચી સામગ્રી, કિંમતી ધાતુઓ, મેટલ પાવડર અને અન્ય નક્કર, પાવડર, પેસ્ટ, પ્રવાહી, ઇલેક્ટ્રોનિક ઉત્પાદનો માટે યોગ્ય છે.

• ● 9-ચેમ્બર્સ એકલ નિયંત્રણ
• ● ઓક્સિડેશનને રોકવા માટે ઈલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો, ઓપ્ટોઈલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો, સેમિકન્ડક્ટર ચિપ્સ અને અન્ય ઉપકરણોની ઉત્પાદન પ્રક્રિયા દરમિયાન ઉત્પાદનોને અસ્થાયી રૂપે સંગ્રહિત કરો
• ● ન્યૂનતમ.50 થી 5*10-5Pa વેક્યૂમ
• ● ઉત્પાદન માહિતી સંગ્રહિત કરવા માટે બારકોડ સ્કેનર

રેઝિન ક્યોરિંગ માટે સેમિકન્ડક્ટર પેકેજિંગ પ્રોગ્રામ સેગમેન્ટ અથવા લેબમાં પરીક્ષણ માટે યોગ્ય.

મલ્ટી-ચેમ્બર પકાવવાની નાની ભઠ્ઠી એક ઉચ્ચ-વોલ્યુમ હોરીઝોન્ટલ એર રિસર્ક્યુલેશન સિસ્ટમનો ઉપયોગ કરે છે જે તાપમાનની એકરૂપતા અને પ્રદર્શનને મહત્તમ કરે છે.

• ● 2/3/4/6 ચેમ્બર સંયોજન માટે ઉપલબ્ધ (દરેક ચેમ્બર માટે એકલ નિયંત્રણ)
• ● સ્થાપન જગ્યા સાચવી રહ્યા છીએ
• ● આડું સંવહન

GZ-RTP-SM-12 એ સેમી-ઓટોમેટિક વર્ટિકલ રેપિડ થર્મલ પ્રોસેસિંગ સિસ્ટમ છે જે સિંગલ 4-12 ઇંચ વેફરને ગરમ કરવા માટે લાગુ કરવામાં આવે છે.
મહત્તમ ટેમ્પ. 1250℃
મહત્તમ 4 ગેસ લાઇન

• ● ઉત્પાદનોની થર્મલ સારવાર માટે યોગ્ય
• ● ઉત્પાદન લાઇન પર સેટ, કન્વેયર ઓવન ઉત્પાદન કાર્યક્ષમતામાં ઘણો સુધારો કરે છે
• ● સંપૂર્ણ સ્વચાલિત નિયંત્રણ
• ● કન્વેયર ઝડપ એડજસ્ટેબલ છે અને બહુવિધ સારવાર પ્રક્રિયા જોવા માટે સક્ષમ છે
• ● ફ્રીક્વન્સી કન્વર્ટર, સ્ટેક લાઇટ, સિલિન્ડર વગેરેથી સજ્જ.
• ● અપસ્ટ્રીમ અને ડાઉનસ્ટ્રીમ સાધનો સાથે જોડાવા માટે આપોઆપ લોડ અને અનલોડ સિસ્ટમ

સાધનસામગ્રી મુખ્યત્વે વેક્યુમ ચેમ્બર અને ઉચ્ચ આવર્તન પ્લાઝ્મા પાવર સપ્લાય, વેક્યુમ સિસ્ટમ, ફુગાવો સિસ્ટમ, સ્વચાલિત નિયંત્રણ સિસ્ટમ અને અન્ય ભાગોથી બનેલું છે. કાર્યનો મૂળ સિદ્ધાંત શૂન્યાવકાશ સ્થિતિમાં છે, 0.15-0.3 એમબારનું વેક્યૂમ હાંસલ કરવા માટે સ્ટુડિયોને વેક્યૂમ કરવા માટે વેક્યૂમ પંપનો ઉપયોગ, અને પછી ઉચ્ચ-આવર્તન જનરેટરની ભૂમિકામાં, ગેસનું આયનીકરણ કરવામાં આવશે, રચના પ્લાઝ્મા (દ્રવ્યની ચોથી સ્થિતિ), અને પછી વર્કપીસ સારવારની સપાટી પર પ્લાઝ્માનો ઉપયોગ.

• ● પ્લાઝ્મા સિસ્ટમ-હેન્ડિંગ મશીન
• ● વિચિત્ર આકારના ભાગોની સપાટીને સાફ કરવા અને સક્રિય કરવા માટે ઉત્પાદન વાતાવરણમાં તેનો સતત ઉપયોગ કરી શકાય છે
• ● વેક્યુમ ચેમ્બર

GZ ઝડપી નીચી ભેજવાળી ભેજ પ્રૂફ કેબિનેટ નવા અપગ્રેડેડ ડિહ્યુમિડિફિકેશન મોડ્યુલને અપનાવે છે. તે 5% આરએચથી નીચે ભેજ સુધી પહોંચી શકે છે. ઉત્પાદન ચલાવવા માટે સરળ છે. તે ખાસ કરીને તમામ પ્રકારના ઇલેક્ટ્રોનિક ભાગો, કેમેરા, કેમેરા, સામાન્ય પ્રયોગશાળાના સાધનો, માઇક્રોસ્કોપ, સામગ્રી અને રસાયણો વગેરે માટે ભલામણ કરવામાં આવે છે.

ESD ડ્રાય કેબિનેટ એ કોઈપણ પર્યાવરણમાં આવશ્યક સાધન છે જ્યાં સંવેદનશીલ ઈલેક્ટ્રોનિક ઘટકોનું સંચાલન કરવામાં આવે છે, જે તેમને સ્થિર વીજળીની સંભવિત નુકસાનકારક અસરોથી સુરક્ષિત કરીને તેમના લાંબા આયુષ્ય અને કાર્યક્ષમતાને સુનિશ્ચિત કરે છે. સંગ્રહિત વસ્તુઓ માટે વધારાની સુરક્ષા પૂરી પાડવા માટે કેબિનેટનો આંતરિક ભાગ ઘણીવાર ESD-સલામત સામગ્રી, જેમ કે એન્ટિ-સ્ટેટિક ફોમ અથવા વાહક પ્લાસ્ટિકના ડબ્બા સાથે રેખાંકિત હોય છે.

નાઇટ્રોજન કેબિનેટ્સ ધૂળ, કણો અને અન્ય અશુદ્ધિઓથી થતા દૂષણને નિયંત્રિત કરવામાં મદદ કરી શકે છે જે સેમિકોન અને ઇલેક્ટ્રોનિક્સ ઉત્પાદનની કામગીરી અને વિશ્વસનીયતાને અસર કરી શકે છે. સ્વચ્છ નાઇટ્રોજન વાતાવરણ ઉત્પાદન પ્રક્રિયાઓ દરમિયાન ઘટકો અને સપાટીઓની શુદ્ધતા જાળવી રાખે છે. વર્ગ 100 (ISO 5) સ્વચ્છતા વાતાવરણમાં પ્રસંગો માટે, ચોક્કસ ઘટકો અને સાધનોને સંગ્રહિત કરવા માટે સંપૂર્ણપણે સ્ટેનલેસ સ્ટીલ ડ્રાય કેબિનેટનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે.

સ્ટેનલેસ સ્ટીલ નાઇટ્રોજન કેબિનેટ એ એક વિશિષ્ટ સ્ટોરેજ સોલ્યુશન છે જે નિષ્ક્રિય નાઇટ્રોજન વાતાવરણને જાળવી રાખીને સંવેદનશીલ ઘટકો અને સામગ્રીને ઓક્સિડેશન અને ભેજના નુકસાનથી બચાવવા માટે રચાયેલ છે. સ્ટેનલેસ સ્ટીલ કેબિનેટ્સ ઉચ્ચ ગુણવત્તાની 304 સ્ટેનલેસ સ્ટીલમાંથી બનાવવામાં આવે છે, જે ઉત્તમ કાટ પ્રતિકાર પ્રદાન કરે છે અને સાફ કરવામાં સરળ છે. મિરર કરેલ ફિનિશ માત્ર આધુનિક દેખાવ જ નહીં પરંતુ સફાઈ અને જાળવણીની સુવિધા પણ આપે છે. આ કેબિનેટ્સની ઉચ્ચ સપાટીની પૂર્ણાહુતિ અને સરળ-થી-સાફ પ્રકૃતિ તેમને ક્લીનરૂમ વાતાવરણ માટે યોગ્ય બનાવે છે, કેટલાક મોડેલો વર્ગ 100 ના સ્વચ્છતા ધોરણને પણ પૂર્ણ કરે છે.

સ્ટેનલેસ સ્ટીલ નાઇટ્રોજન કેબિનેટનો ઉપયોગ સામાન્ય રીતે સેમિકન્ડક્ટર, ફોટોનિક્સ અને FPD ઉદ્યોગો, વિશિષ્ટ સામગ્રી સંગ્રહ અને ઇલેક્ટ્રોનિક ક્ષેત્રોમાં ઓક્સિડેશન, વિદેશી સંસ્થાઓના હુમલા અને સ્વચ્છ વાતાવરણમાં ભેજ નિયંત્રણને રોકવા માટે થાય છે.

કેબિનેટ મહત્તમ લોડ અને ટકાઉપણું માટે ડિઝાઇન કરવામાં આવ્યું છે, સ્ટેનલેસ સ્ટીલ નાઇટ્રોજન કેબિનેટ કાર્યક્ષેત્રને શુદ્ધ કરવા માટે નાઇટ્રોજન ઇનલેટ સાથે ઇન્સ્ટોલ કરેલું છે, જેથી સ્ટોરેજ વસ્તુઓને ઓક્સિડાઇઝ થવાથી બચાવવા માટે, સમગ્ર N2 ડ્રાય કેબિનેટ SUS#304 દ્વારા બનાવવામાં આવે છે.

નીચા ભેજનું સ્તર જાળવી રાખીને, નાઇટ્રોજન કેબિનેટ IC ઘટકોના સંગ્રહ અને પ્રક્રિયા દરમિયાન ભેજના સંપર્કને ઘટાડવામાં મદદ કરે છે. તે ઓક્સિડેશન ઘટાડીને અને સ્વચ્છ, વિશ્વસનીય જોડાણો સુનિશ્ચિત કરીને સોલ્ડર સંયુક્ત ગુણવત્તામાં સુધારો કરી શકે છે. કાટ, ડિલેમિનેશન અથવા અન્ય ભેજ-સંબંધિત ખામીઓને રોકવા માટે આ મહત્વપૂર્ણ છે જે IC પેકેજોની વિશ્વસનીયતાને અસર કરી શકે છે.

• ● ભેજની શ્રેણી: 1-60% RH
• ● ક્ષમતા: 500/1020/1250/1510 લિટર
• ● ESD સલામત