He mea koʻikoʻi nā umu kinoea inert kiʻekiʻe loa i nā ʻoihana kahi e koi ʻia ai ka hoʻoili ʻana i ka wela kiʻekiʻe i loko o kahi ea inert, e hōʻoiaʻiʻo ana i ka maikaʻi a me ka pololei o nā mea i hana ʻia. He kūpono ia no ka lewa i nā kinoea inert e like me Argon, Carbon Dioxide, Helium, a me Nitrogen. Hāʻawi nā mea hoʻomehana uea nichrome kaumaha ākea ākea i kahi kumu wela ikaika a hiki i 600 degere. ʻO ka hoʻolālā ʻelua-shell kū hoʻokahi e hiki ai i ke kaʻa ʻana o ka mea hoʻoluʻu a me ka ea a puni kahi keʻena i loko i hoʻopiha ʻia me ke kinoea inert, e mālama mau ana i ke kaomi kūloko a me ka mahana.

He mea maikaʻi nā umu kinoea inert no nā noi umu ʻoihana e pili ana i ka hoʻoponopono ʻana i nā mea i loko o kahi kaiapuni i hoʻomalu ʻia, me ka hoʻomaloʻo ʻana i ka wai, ka hoʻomaloʻo wafer, ka hoʻomaʻamaʻa resin no ka hoʻopili semiconductor, a me ka ʻelemakule o nā mea uila a me nā mea hana.

● 1 keʻena a i ʻole 2 ʻano keʻena (ka mana kūʻokoʻa no kēlā me kēia keʻena)
● Max. 260 ℃
●O2 ka manaʻo ma lalo o 50ppm

He kūpono no ka ho'ōla ʻana i nā wafers semiconductor (photoresist PI, PBO, BCB curing), aniani substrate baking, a kiʻekiʻe-precision annealing lapaʻau, etc.

Hoʻohana nui ʻia nā umu maʻemaʻe i ka mālama wela a i ʻole ka hoʻomaloʻo ʻana i nā wafers semiconductor, nā kristal wai, nā disks a me nā mea ʻē aʻe a me nā mea e pono ai ke kūlana ea maʻemaʻe.

• ● Papa 100
• ● 350L mana nui
• ● Max. wela 260 ℃

• ● ʻO ka hoʻomaloʻo ʻana i ka momi e hoʻoneʻe i ka wai a me ka solvent i nā mea electrode.
• ● Max. ʻO ka mahana 300 ℃ / 400 ℃ ke koho
• ● Loaʻa i ka 3 nui, ka mana nui

ʻO ka umu hoʻomaloʻo maloʻo nui i hoʻolālā ʻia no nā ʻano hana maloʻo a pau.

• ● Max. wela 250 ℃
• ● Hoʻohana ʻana i ka ʻūhā 101kPa -0.1kPa

He mea kūpono kēia umu no ka wehe ʻana i ke koena o ka wai, nā mea hoʻoheheʻe a i ʻole nā ​​mea hoʻoheheʻe ʻē aʻe mai nā huahana pili wela. E hoʻokomo ʻia ka pauma ʻumeke ma ka ʻaoʻao lalo o ka umu no ka mālama ʻana i kahi hoʻonohonoho me ka hoʻopili wikiwiki ʻana i ka paipu flange. Hoʻohana nui ʻia kēia ʻano umu i nā labs, semiconductor, MEMS, a me nā wahi uila.

Hoʻomalu kūʻokoʻa nā keʻena 9 a kaʻana like i hoʻokahi pūʻulu o ka ʻōnaehana vacuum. He kūpono ia no nā ʻano mea metala āpau, anaerobicanaerobic, kemika maka, nā metala makamae, ka pauka metala a me nā mea paʻa ʻē aʻe, pauda, ​​paʻi, wai, nā huahana uila.

• ● 9-Keʻena kūʻokoʻa mana
• ● E mālama i nā huahana no ka manawa lōʻihi i ka wā o ka hana ʻana o nā mea uila, nā mea optoelectronic, semiconductor chips a me nā mea hana ʻē aʻe e pale ai i ka oxidation.
• ● Min.50 a hiki i 5 * 10-5Pa vacuum
• ● Barcode scanner e mālama i ka ʻike huahana

Hoʻokomo ʻia nā umu ʻenehana kila kila GMS i nā ʻano hana hana wela a hiki i 200 ℃. Ua kūpono nā umu ʻoihana no ka hoʻomehana ʻana i ka pahu, ka ʻelemakule, ka paʻakikī kumu, ka hoʻomaloʻo, ka hoʻomaʻamaʻa ʻana, ka hoʻōla ʻana, a me ka hoʻāʻo ʻana i nā mea.

• ● mea kila kila no ka hui maʻemaʻe hale hana a corrosive kaiapuni
• ● Max. Temp. 200°C
• ● ʻAno convection ikaika

• ● He kūpono no ka mālama wela o nā huahana
• ● Hoʻonoho ʻia ma ka laina hana, ua hoʻomaikaʻi maikaʻi ka umu conveyor i ka pono hana
• ● Ka hoʻomalu 'akomi piha
• ● Hiki ke hoʻololi ʻia ka wikiwiki conveyor a hiki iā ia ke hana i nā kaʻina hana lapaʻau he nui
• ● Hoʻolako ʻia me ka mea hoʻololi alapine, kukui stake, cylinder, etc.
• ● ʻO ka hoʻouka a me ka wehe ʻana i ka ʻōnaehana e hoʻopili me nā mea hana i luna a i lalo

Hoʻomalu kūʻokoʻa nā keʻena 9 a kaʻana like i hoʻokahi pūʻulu o ka ʻōnaehana vacuum. He kūpono ia no nā ʻano mea metala āpau, anaerobicanaerobic, kemika maka, nā metala makamae, ka pauka metala a me nā mea paʻa ʻē aʻe, pauda, ​​paʻi, wai, nā huahana uila.

• ● 9-Keʻena kūʻokoʻa mana
• ● E mālama i nā huahana no ka manawa lōʻihi i ka wā o ka hana ʻana o nā mea uila, nā mea optoelectronic, semiconductor chips a me nā mea hana ʻē aʻe e pale ai i ka oxidation.
• ● Min.50 a hiki i 5 * 10-5Pa vacuum
• ● Barcode scanner e mālama i ka ʻike huahana

He kūpono no ka māhele papahana semiconductor packaging a i ʻole ka hoʻāʻo ʻana i ka lab, no ka hoʻōla resin.

Hoʻohana ʻia ka umu multi-chamber i kahi ʻōnaehana hoʻihoʻi ʻana i ka ea ākea ākea e hoʻonui ai i ka kūlike o ka mahana a me ka hana.

• ● Loaʻa no ka hui keʻena 2/3/4/6 (mana kūʻokoʻa no kēlā me kēia keʻena)
• ● Mālama i ka wahi hoʻokomo
• ● Horizontal convection

ʻO GZ-RTP-SM-12 kahi ʻōnaehana hoʻoheheʻe wela wela semi-akomi i hoʻohana ʻia no ka hoʻomehana hoʻokahi 4-12 iniha wafer.
Max. Temp. 1250 ℃
Max. 4 laina kinoea

• ● He kūpono no ka mālama wela o nā huahana
• ● Hoʻonoho ʻia ma ka laina hana, ua hoʻomaikaʻi maikaʻi ka umu conveyor i ka pono hana
• ● Ka hoʻomalu 'akomi piha
• ● Hiki ke hoʻololi ʻia ka wikiwiki conveyor a hiki iā ia ke hana i nā kaʻina hana lapaʻau he nui
• ● Hoʻolako ʻia me ka mea hoʻololi alapine, kukui stake, cylinder, etc.
• ● ʻO ka hoʻouka a me ka wehe ʻana i ka ʻōnaehana e hoʻopili me nā mea hana i luna a i lalo

Hoʻokumu nuiʻia nā mea hana i ka lumiʻeleʻele a me ka mana plasma kiʻekiʻe kiʻekiʻe, ka'ōnaehana vacuum, ka'ōnaehana hoʻonui, ka'ōnaehana mana aunoa a me nā mea'ē aʻe. ʻO ke kumu kumu o ka hana i loko o kahi moku'āina,ʻo ka hoʻohanaʻana i nā pahūʻeleʻele e hoʻomaʻemaʻe i ke keena e hoʻokō ai i kahi 0.15-0.3 mbar, a laila ma keʻano o ka mea hana kiʻekiʻe-frequency, e hoʻoneleʻia ke kinoea, ka hoʻokumuʻana. o ka plasma (ka mokuʻāina ʻehā o ka mea), a laila ka hoʻohana ʻana i ka plasma ma ka ʻili o ka lāʻau hana.

• ● mīkini hāʻawi pūnaewele plasma
• ● Hiki ke hoʻohana mau ʻia i loko o kahi ʻenehana hana e hoʻomaʻemaʻe a hoʻōla i ka ʻili o nā ʻāpana ʻano ʻano
• ● Keʻena māma

Hoʻohana ʻo GZ i ka pahu hoʻomaʻamaʻa haʻahaʻa haʻahaʻa haʻahaʻa i ka module dehumidification hou i hoʻonui ʻia. Hiki iā ia ke hiki i ka haʻahaʻa ma lalo o 5% RH. He mea maʻalahi ka huahana. Manaʻo nui ʻia ia no nā ʻāpana uila āpau, nā kāmela, nā kāmela, nā mea hana keʻena maʻamau, nā microscopes, nā mea a me nā kemika, a me nā mea ʻē aʻe e pale ai i ka pala a me ka maʻi.

ʻO nā keʻena maloʻo ESD kahi mea hana pono i kēlā me kēia kaiapuni kahi e mālama ʻia ai nā ʻāpana uila koʻikoʻi, e hōʻoia ana i ko lākou ola lōʻihi a me ka hana ma o ka pale ʻana iā lākou mai nā hopena pōʻino o ka uila static. Hoʻopili pinepine ʻia ka ʻaoʻao o ke keʻena me nā mea palekana ESD, e like me ka anti-static foam a i ʻole conductive plastic bins, e hāʻawi i ka pale hou no nā mea i mālama ʻia.

Hiki i nā keʻena Nitrogen ke kōkua i ka mālama ʻana i ka haumia mai ka lepo, nā ʻāpana, a me nā mea haumia ʻē aʻe e hiki ke hoʻopilikia i ka hana a me ka hilinaʻi o ka semicon a me ka hana uila. Mālama ka ʻenehana nitrogen maʻemaʻe i ka maʻemaʻe o nā ʻāpana a me nā ʻili i ka wā o ka hana ʻana. No nā manawa ma ka papa 100 (ISO 5) kaiapuni hoʻomaʻemaʻe, hoʻohana ʻia ke aniani piha i ke kila kila kila no ka mālama ʻana i nā ʻāpana a me nā mea kani.

ʻO kahi keʻena hauʻoli hao hao he ʻano hoʻopaʻa mālama kūikawā i hoʻolālā ʻia no ka pale ʻana i nā ʻāpana koʻikoʻi a me nā mea mai ka oxidation a me ka pōʻino ma o ka mālama ʻana i kahi ea nitrogen inert. Hana ʻia nā keʻena kila kila mai ke kila kila 304 kiʻekiʻe, e hāʻawi ana i ka pale ʻana i ka corrosion maikaʻi loa a maʻalahi hoʻi e hoʻomaʻemaʻe. ʻAʻole hāʻawi wale ka hoʻopau aniani i kahi hiʻohiʻona hou akā hoʻomaʻemaʻe hoʻi i ka hoʻomaʻemaʻe a me ka mālama ʻana. ʻO ka hopena kiʻekiʻe a me ka maʻalahi o ka hoʻomaʻemaʻe ʻana o kēia mau keʻena keʻena e kūpono iā lākou no nā lumi lumi hoʻomaʻemaʻe, me kekahi mau hiʻohiʻona e kū ana i ke kūlana maʻemaʻe o ka Papa 100

Hoʻohana maʻamau ʻia ke keʻena nitronika stainless steel i ka semiconductor, photonics a me nā ʻoihana FPD, mālama waiwai kūikawā a me nā ʻāpana uila no ka pale ʻana i ka oxidation, hoʻouka ʻana i nā kino ʻē aʻe a me ka mana haʻahaʻa i kahi maʻemaʻe.

Hoʻolālā ʻia ke keʻena no ka haʻahaʻa kiʻekiʻe a me ka lōʻihi, Ua hoʻokomo ʻia ke keʻena hauʻoli Stainless steel me kahi inlet nitrogen e hoʻomaʻemaʻe i ka wahi hana, i mea e pale ai i nā mea mālama mai ka oxidized, ua hana ʻia ke keʻena maloʻo N2 holoʻokoʻa e SUS #304.

Ma ka mālama ʻana i nā haʻahaʻa haʻahaʻa haʻahaʻa, kōkua nā keʻena nitrogen e hōʻemi i ka ʻike ʻana i ka makū i ka wā o ka mālama ʻana a me ka hana ʻana o nā ʻāpana IC. Hiki iā ia ke hoʻomaikaʻi i ka maikaʻi o ka hui pū ʻana ma o ka hōʻemi ʻana i ka oxidation a me ka hōʻoia ʻana i nā pilina maʻemaʻe a hilinaʻi. He mea koʻikoʻi kēia no ka pale ʻana i ka corrosion, delamination, a i ʻole nā ​​​​pilikia e pili ana i ka wai e hiki ke hoʻopilikia i ka hilinaʻi o nā pūʻolo IC.

• ● Kūlana haʻahaʻa: 1-60% RH
• ● Kaha: 500/1020/1250/1510Liter
• ● Palekana ESD