真空オーブン

• ●真空乾燥により電極材料中の水分と溶剤を除去します。
• ● 最高温度300℃/400℃はオプション
• ●動作真空範囲101kPa -1Pa●3サイズ展開、大容量

あらゆる種類の真空乾燥目的のために設計された大型真空乾燥オーブン。

• ● 最高温度250℃
• ●動作真空範囲101kPa -0.1kPa

このオーブンは、温度に敏感な製品から残留水、溶剤、その他の揮発性化合物を除去するのに最適です。真空ポンプはオーブンの下側に取り付けられ、クイック接続フランジ配管で設置スペースを節約します。このタイプのオーブンは、研究室、半導体、MEMS、電子分野で広く使用されています。

9つのチャンバーは独立して制御され、1セットの真空システムを共有します。あらゆる種類の金属材料、嫌気性、化学原料、貴金属、金属粉末、その他の固体、粉末、ペースト、液体、電子製品に適しています。

• ● 9チャンバースタンドアロンコントロール
• ●電子デバイス、光電子デバイス、半導体チップなどの製造工程中に製品を一時的に保管し、酸化を防ぐ
• ● 最小50～5*10-5Paの真空
• ● 製品情報を保存するためのバーコードスキャナ