Ultra caliditas inertes gasi clibani sunt instrumenta critica in industriis ubi summus temperatura processus in atmosphaera iners requiritur, ad qualitatem et integritatem materiae procedendi. Valet pro atmosphaera in vaporibus iners, ut Argon, Carbon, Dioxide, Helium, et Nitrogen. Aer-aer grave-membrana nichrome filum calefacientis elementa robustum fontem caloris usque ad 600 gradus praebent. Singularis testudinis ratio permittit ad circulationem aeris frigidi et ambientis circa cubiculum interiorem gas iners repletum, pressionem internam et temperaturam stabilem servans.

Inertes gasi clibani aptae sunt applicationibus clibani industrialis quae materiae processus in ambitu atmosphaerae moderato involvunt, incluso umore siccante, lagano siccante, resina medendo pro fasciculo semiconductori, et senescente partium electronicarum et machinis.

● 1 cubicularius vel 2 genera cubiculi (standalone imperium pro singulis cubiculis)
Max. 260℃
-O2 concentration infra 50ppm

Apta ad sanationem lagana semiconductoris (photoresistae PI, PBO, BCB curationis), substratae coquendae vitreae, et summa curatione furnum, etc.

Clibani mundae adhibentur late in curatione caloris vel siccatione laganae semiconductoris, crystallis liquidae, orbis et aliorum partium et machinarum quae condiciones aeris mundas requirunt.

• Classis 100
• 350L capacitatem magnam
• Max. temperatus 260℃

• ● Vacuum desiccatio ad umorem tollendum et solvendum in materia electrode.
• Max. temperatus 300℃/400℃ est libitum
• Operating vacuum range 101kPa -1Pa● Available in III magnitudinum, capacitatem magnam

Magnum clibano vacuum desiccatio disposita ad omnes species vacui desiccandi propositi.

• Max. temperatus 250℃
• operans vacuum range 101kPa -0.1kPa

Clibano hoc est specimen ad aquam residuas tollendas, menstruas vel alias compositiones volatiles ab productorum sensibilium temperatorum. Vacuum sentinam in downside clibani instituetur ad spatium institutionis servandum cum limbi limbo vivo connexione. Hoc genus clibani late in labs, semiconductor, MEMS et in area electronic adhibetur.

Cubicula 9 independenter moderantur et unum systematis vacui communicant. Idoneum est omnibus materiis metallicis, anaerobicanaerobicis, chemicis, materiis rudis, metallis pretiosis, metallis pulveris et aliis solidis, pulveris, farinae, liquoris, productorum electronicarum.

• 9-cubicula standalone control
• ● Temporale copia productorum in processu productionis machinarum electronicarum, machinarum optoelectronic, semiconductorum astularum et aliorum machinis ad oxidationem praecavendam.
• Min.50 ad 5*10-5Pa vacuum
• Barcode scanner congregem productum notitia

GMS ferro immaculato clibani industriales varias applicationes scelerisque processui ad 200℃ accommodant. Fornae industriae speciatim aptae sunt tympano calefactio, senescente, nucleo obdurationis, exsiccandi, preheandi, curandi, et componentis probatio.

• Aliquam ferro materia ad suite ad officinam mundi vel mordax environment
• Max. Temp. CC°C
• genus coactus convection

• Idoneum scelerisque curatio products
• Pone ad lineam productionis, TRADUCTOR clibanus productio efficientiam valde emendavit
• automatice plene imperium
• ● TRADUCTOR celeritas aptabilis et multiplex processus curationis se habere poterit
• frequentia instructus converter, palus levis, cylindrus, cet.
• ● Lorem onus et unload ratio coniungere cum flumine et amni apparatu

Cubicula 9 independenter moderantur et unum systematis vacui communicant. Idoneum est omnibus materiis metallicis, anaerobicanaerobicis, chemicis, materiis chemicis, metallis pretiosis, metallis pulveribus aliisque solidis, pulveris, farinae, liquoris, productorum electronicarum.

• 9-cubicula standalone control
• ● Temporale copia productorum in processu productionis machinarum electronicarum, machinarum optoelectronic, semiconductorum astularum et aliorum machinis ad oxidationem praecavendam.
• Min.50 ad 5*10-5Pa vacuum
• Barcode scanner congregem productum notitia

Apta segmento semiconductori fasciculo programmatis vel experimento in lab, ad resinam curandam.

Multi cubicularius clibanus magno volumine utitur recirculatione aeris horizontalis, quae temperatura uniformitatem et observantiam maximificat.

• Available pro 2/3/4/6 iunctura cubiculi (standalone imperium pro singulis cubiculis)
• Salvis institutionem spatii
• Horizontalis convection

GZ-RTP-SM-12 est semi-automatic verticalis celeri processus systematis scelerisque applicatum ad calefactionem unius 4-12 inch laganum
Maximilianus. Temp. 1250℃
Maximilianus. IV Gas lineae

• Idoneum scelerisque curatio products
• Pone ad lineam productionis, TRADUCTOR clibanus productio efficientiam valde emendavit
• automatice plene imperium
• ● TRADUCTOR celeritas aptabilis et multiplex processus curationis se habere poterit
• frequentia instructus converter, palus levis, cylindrus, cet.
• ● Lorem onus et unload ratio coniungere cum flumine et amni apparatu

Apparatum maxime compositum est vacui cubiculi et frequentiae plasmatis potentiae copiae altae, systematis vacuum, systematis inflationis, systematis automatis et aliarum partium. Principium operis in vacuo statu est, usus exhauriendi exhauriendi studio ad vacuum 0.15-0.3 mbarum consequendum, et deinde in munere frequentiae generantis summus, gas ionized erit formatio. de plasma (quarto statu materiae), et deinde usus plasmatis in superficie curationis workpiece.

• Plasma systema-handing machine
• Constanter adhiberi potest in fabricandis environment ad mundum et superficies partes varie informibus eu
• Vacuum camera

GZ ieiunium humilitatis humiditatis umoris documentum scrinium induit novum moduli dehumidificationis upgraded. Ad humiditatem pervenire potest infra 5% RH. Productum facile aliquid operari. Praecipue commendatur pro omnibus generibus partium electronicarum, camerarum, camerarum, instrumentorum officinarum generalium, microscopiorum, materiarum et oeconomiae, etc. ad formandum et rubiginem impediendam.

ESD cellae aridae instrumentum essentiale in quovis ambitu quo partes electronicarum sensitivarum tractantur, ut eorum longitudinis et observantiae tueantur, ab effectibus electricitatis statice potentialiter laedentes. Arcae interior saepe cum ESD-tutis materiis saepiatur, ut spumae anti-staticae vel plumbeae plasticae conductivae, additae tutelae pro reposita supellectili providendi.

Scrinium NITROGENIUM adiuvare possunt contagionem ex pulvere, particulis, aliisque immunditiis temperare quae efficere ac fidem semiconis et electronicorum productionis infringere possent. Mundus ambitus nitrogenii puritatem partium et superficierum in processibus faciendis conservat. Pro occasionibus in genere 100 (ISO 5) munditiae ambitus, plene speculum inactum ferrum siccum scrinium adhibetur ad certas compositiones et instrumenta reponendas.

Arca nitrogenii chalybeis immaculata est propriae solutionis repositionis, quae ad tuendas partes sensitivas et materias ab oxidatione et humore damni conservando atmosphaeram nitrogenis iners. Repositoria chalybea immaculata fiunt ex chalybe immaculata qualis 304, quae optimam corrosionem resistit, et facile est mundare. Finis specularis non solum modernam speciem praebet, sed etiam purgationem et sustentationem faciliorem reddit. Superficies alta peractus et facilis ad mundana harum rerum natura eos ad ambitus mundissimos aptos efficit, cum nonnullis exemplaribus etiam munditiae vexillum C Classis occurrens.

Arca nitrogenis immaculata ferro plerumque utitur in semiconductore, photonica et FPD industriae, speciales materiae repositiones et sectores electronic ne oxidatio, impetus corporum externorum et humiditas moderatio in mundi ambitu.

Scrinium ad maximum onus et durabilitatem destinatur, Nulla NITROGENIUM chalybeum scrinium cum NITROGENIUM limbo ad purgationem laborantis aream instituitur, ita ut res ex oxidized reposita tutaretur, totum N2 scrinium siccum a SUS#304 fabricatum est.

Humilis humiditatis gradus conservando, repositoria NITROGENIUM adiuvant minimize humorem expositionis in repositione et processus IC componentium. Potest emendare solidatorium iuncturam qualitatem reducendo oxidationis et curandi nexus mundas, certas. Hoc pendet ad praecavendam corrosionem, delaminationem, vel alios defectus humorum relatos qui fidem fasciculorum IC afficere possunt.

• Umor Range: 1-60% RH
• Capacitas: 500/1020/1250/1510Liter
• ESD Tutus