ເຕົາອົບອາຍແກັສ inert ອຸນຫະພູມສູງເປັນອຸປະກອນທີ່ສໍາຄັນໃນອຸດສາຫະກໍາທີ່ຕ້ອງການການປຸງແຕ່ງອຸນຫະພູມສູງໃນບັນຍາກາດ inert, ຮັບປະກັນຄຸນນະພາບແລະຄວາມສົມບູນຂອງວັດສະດຸທີ່ກໍາລັງປະມວນຜົນ. ມັນສາມາດໃຊ້ໄດ້ກັບບັນຍາກາດໃນອາຍແກັສ inert ເຊັ່ນ: Argon, Carbon Dioxide, Helium, ແລະໄນໂຕຣເຈນ. ອົງປະກອບເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນສາຍ nichrome ທີ່ມີເຄື່ອງວັດແທກໜັກເປີດອາກາດໃຫ້ແຫຼ່ງຄວາມຮ້ອນທີ່ເຂັ້ມແຂງເຖິງ 600 ອົງສາ. ການອອກແບບເປືອກຫອຍຄູ່ທີ່ເປັນເອກະລັກເຮັດໃຫ້ການໄຫຼວຽນຂອງ coolant ແລະອາກາດລ້ອມຮອບຫ້ອງພາຍໃນທີ່ເຕັມໄປດ້ວຍອາຍແກັສ inert, ຮັກສາຄວາມກົດດັນພາຍໃນແລະອຸນຫະພູມທີ່ຫມັ້ນຄົງ.

ເຕົາອົບອາຍແກັສ inert ແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ເຕົາອົບອຸດສາຫະກໍາທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບວັດສະດຸປຸງແຕ່ງໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີການຄວບຄຸມ, ລວມທັງການອົບແຫ້ງຄວາມຊຸ່ມ, ການອົບແຫ້ງ wafer, ້ໍາຢາງ curing ສໍາລັບການຫຸ້ມຫໍ່ semiconductor, ອາຍຸຂອງອົງປະກອບແລະອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກ.

● 1 ຫ້ອງ ຫຼື 2 ປະເພດຫ້ອງ (ການຄວບຄຸມແບບດ່ຽວສຳລັບແຕ່ລະຫ້ອງ)
● ສູງສຸດ. 260 ℃
●ຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນຂອງ O2 ຕ່ຳກວ່າ 50ppm

ເຫມາະສໍາລັບການປິ່ນປົວ wafers semiconductor (photoresist PI, PBO, BCB curing), baking substrate ແກ້ວ, ແລະການປິ່ນປົວ annealing ຄວາມແມ່ນຍໍາສູງ, ແລະອື່ນໆ.

ເຕົາອົບທີ່ສະອາດໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນຫຼືເວລາແຫ້ງຂອງ wafers semiconductor, ໄປເຊຍກັນຂອງແຫຼວ, ແຜ່ນແລະສ່ວນປະກອບອື່ນໆແລະອຸປະກອນທີ່ຕ້ອງການສະພາບອາກາດທີ່ສະອາດ.

• ● ຊັ້ນ 100
• ● ຄວາມຈຸຂະໜາດໃຫຍ່ 350L
• ● ສູງສຸດ. ອຸນ​ຫະ​ພູມ 260 ℃​

• ● ການອົບແຫ້ງແບບສູນຍາກາດເພື່ອເອົາຄວາມຊຸ່ມຊື້ນແລະສານລະລາຍໃນວັດສະດຸ electrode.
• ● ສູງສຸດ. ອຸນຫະພູມ 300 ℃ / 400 ℃ ເປັນທາງເລືອກ
• ● ຊ່ວງສູນຍາກາດໃຊ້ງານໄດ້ 101kPa -1Pa● ມີ 3 ຂະໜາດ, ຄວາມຈຸໃຫຍ່

ເຕົາອົບແຫ້ງສູນຍາກາດຂະຫນາດໃຫຍ່ອອກແບບມາສໍາລັບທຸກປະເພດຂອງການອົບແຫ້ງສູນຍາກາດ.

• ● ສູງສຸດ. ອຸນ​ຫະ​ພູມ 250 ℃​
• ● ໄລຍະສູນຍາກາດປະຕິບັດງານ 101kPa -0.1kPa

ເຕົາອົບນີ້ແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບການເອົານ້ໍາຕົກຄ້າງ, ສານລະລາຍຫຼືທາດປະສົມທີ່ລະເຫີຍອື່ນໆອອກຈາກຜະລິດຕະພັນທີ່ລະອຽດອ່ອນອຸນຫະພູມ. ປັ໊ມສູນຍາກາດຈະຖືກຕິດຕັ້ງຢູ່ໃນ downside ຂອງເຕົາອົບເພື່ອຊ່ວຍປະຢັດພື້ນທີ່ການຕິດຕັ້ງທີ່ມີການເຊື່ອມຕໍ່ໄວ flange piping. ປະເພດຂອງເຕົາອົບນີ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຫ້ອງທົດລອງ, semiconductor, MEMS, ແລະພື້ນທີ່ເອເລັກໂຕຣນິກ.

9 ຫ້ອງຖືກຄວບຄຸມເປັນເອກະລາດແລະແບ່ງປັນລະບົບສູນຍາກາດຫນຶ່ງຊຸດ. ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບທຸກປະເພດຂອງວັດສະດຸໂລຫະ, anaerobicanaerobic, ວັດຖຸດິບເຄມີ, ໂລຫະປະເສີດ, ຝຸ່ນໂລຫະແລະແຂງອື່ນໆ, ຝຸ່ນ, paste, ແຫຼວ, ຜະລິດຕະພັນເອເລັກໂຕຣນິກ.

• ● ການຄວບຄຸມ 9-Chambers standalone
• ● ເກັບຮັກສາຜະລິດຕະພັນຊົ່ວຄາວໃນລະຫວ່າງຂະບວນການຜະລິດອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກ, ອຸປະກອນ optoelectronic, chip semiconductor ແລະອຸປະກອນອື່ນໆເພື່ອປ້ອງກັນການຜຸພັງ.
• ● Mini.50 ຫາ 5*10-5Pa ສູນຍາກາດ
• ● ເຄື່ອງສະແກນບາໂຄດເພື່ອເກັບຂໍ້ມູນຜະລິດຕະພັນ

ເຕົາອົບອຸດສາຫະກໍາສະແຕນເລດ GMS ຮອງຮັບຄວາມຫລາກຫລາຍຂອງຄໍາຮ້ອງສະຫມັກການປຸງແຕ່ງຄວາມຮ້ອນເຖິງ 200 ℃. ເຕົາອົບອຸດສາຫະກໍາແມ່ນເຫມາະສົມທີ່ສຸດສໍາລັບການໃຫ້ຄວາມຮ້ອນ drum, aging, core hardening, drying, preheating, curing, ແລະການທົດສອບອົງປະກອບ.

• ●ວັດສະດຸສະແຕນເລດທີ່ເຫມາະສົມກັບກອງປະຊຸມທີ່ສະອາດຫຼືສະພາບແວດລ້ອມ corrosive
• ● ສູງສຸດ. ອຸນຫະພູມ. 200°C
• ● ປະ​ເພດ convection ບັງ​ຄັບ

• ●ເຫມາະສົມສໍາລັບການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນຂອງຜະລິດຕະພັນ
• ●ຕັ້ງຢູ່ໃນສາຍການຜະລິດ, ເຕົາອົບ conveyor ໄດ້ປັບປຸງປະສິດທິພາບການຜະລິດຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ
• ● ການຄວບຄຸມອັດຕະໂນມັດຢ່າງເຕັມສ່ວນ
• ●ຄວາມໄວລໍາລຽງແມ່ນສາມາດປັບໄດ້ແລະສາມາດ se ຂະບວນການການປິ່ນປົວຫຼາຍ
• ●ມີອຸປະກອນແປງຄວາມຖີ່, ແສງສະເຕກ, ກະບອກສູບ, ແລະອື່ນໆ.
• ● ລະບົບການໂຫຼດ ແລະ ໂຫຼດອັດຕະໂນມັດເພື່ອເຊື່ອມຕໍ່ກັບອຸປະກອນເທິງນ້ຳ ແລະ ລຸ່ມນ້ຳ

9 ຫ້ອງຖືກຄວບຄຸມເປັນເອກະລາດແລະແບ່ງປັນລະບົບສູນຍາກາດຫນຶ່ງຊຸດ. ມັນເຫມາະສົມສໍາລັບທຸກປະເພດຂອງວັດສະດຸໂລຫະ, anaerobicanaerobic, ວັດຖຸດິບເຄມີ, ໂລຫະປະເສີດ, ຝຸ່ນໂລຫະແລະແຂງອື່ນໆ, ຝຸ່ນ, paste, ແຫຼວ, ຜະລິດຕະພັນເອເລັກໂຕຣນິກ.

• ● ການຄວບຄຸມ 9-Chambers standalone
• ● ເກັບຮັກສາຜະລິດຕະພັນຊົ່ວຄາວໃນລະຫວ່າງຂະບວນການຜະລິດອຸປະກອນເອເລັກໂຕຣນິກ, ອຸປະກອນ optoelectronic, chip semiconductor ແລະອຸປະກອນອື່ນໆເພື່ອປ້ອງກັນການຜຸພັງ.
• ● Mini.50 ຫາ 5*10-5Pa ສູນຍາກາດ
• ● ເຄື່ອງສະແກນບາໂຄດເພື່ອເກັບຂໍ້ມູນຜະລິດຕະພັນ

ເຫມາະສໍາລັບສ່ວນໂຄງການຫຸ້ມຫໍ່ semiconductor ຫຼືການທົດສອບໃນຫ້ອງທົດລອງ, ສໍາລັບ resin curing.

ເຕົາອົບຫຼາຍຫ້ອງໃຊ້ລະບົບການໄຫຼວຽນຂອງອາກາດຕາມແນວນອນທີ່ມີປະລິມານສູງ ເຊິ່ງເຮັດໃຫ້ອຸນຫະພູມ ແລະປະສິດທິພາບສູງສຸດ.

• ● ມີໃຫ້ສໍາລັບການປະສົມຫ້ອງ 2/3/4/6 (ການຄວບຄຸມແບບດ່ຽວສຳລັບແຕ່ລະຫ້ອງ)
• ● ປະຢັດພື້ນທີ່ຕິດຕັ້ງ
• ● convection ແນວນອນ

GZ-RTP-SM-12 ເປັນລະບົບການປະມວນຜົນຄວາມຮ້ອນໄວແບບເຄິ່ງອັດຕະໂນມັດຕາມແນວຕັ້ງທີ່ໃຊ້ສໍາລັບການໃຫ້ຄວາມຮ້ອນ wafer 4-12 ນິ້ວດຽວ.
ສູງສຸດ. ອຸນຫະພູມ. 1250℃
ສູງສຸດ. 4 ສາຍກ໊າຊ

• ●ເຫມາະສົມສໍາລັບການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນຂອງຜະລິດຕະພັນ
• ●ຕັ້ງຢູ່ໃນສາຍການຜະລິດ, ເຕົາອົບ conveyor ໄດ້ປັບປຸງປະສິດທິພາບການຜະລິດຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ
• ● ການຄວບຄຸມອັດຕະໂນມັດຢ່າງເຕັມສ່ວນ
• ●ຄວາມໄວລໍາລຽງແມ່ນສາມາດປັບໄດ້ແລະສາມາດ se ຂະບວນການການປິ່ນປົວຫຼາຍ
• ●ມີອຸປະກອນແປງຄວາມຖີ່, ແສງສະເຕກ, ກະບອກສູບ, ແລະອື່ນໆ.
• ● ລະບົບການໂຫຼດ ແລະ ໂຫຼດອັດຕະໂນມັດເພື່ອເຊື່ອມຕໍ່ກັບອຸປະກອນເທິງນ້ຳ ແລະ ລຸ່ມນ້ຳ

ອຸປະກອນສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນປະກອບດ້ວຍຫ້ອງສູນຍາກາດແລະການສະຫນອງພະລັງງານ plasma ຄວາມຖີ່ສູງ, ລະບົບສູນຍາກາດ, ລະບົບອັດຕາເງິນເຟີ້, ລະບົບຄວບຄຸມອັດຕະໂນມັດແລະພາກສ່ວນອື່ນໆ. ຫຼັກການພື້ນຖານຂອງການເຮັດວຽກແມ່ນຢູ່ໃນສະພາບສູນຍາກາດ, ການນໍາໃຊ້ເຄື່ອງດູດຝຸ່ນເພື່ອສູນຍາກາດສະຕູດິໂອເພື່ອບັນລຸສູນຍາກາດຂອງ 0.15-0.3 mbar, ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນໃນພາລະບົດບາດຂອງເຄື່ອງກໍາເນີດຄວາມຖີ່ສູງ, ອາຍແກັສຈະໄດ້ຮັບການ ionized, ການສ້າງຕັ້ງ. ຂອງ plasma (ລັດສີ່ຂອງເລື່ອງ), ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນການນໍາໃຊ້ plasma ໃນດ້ານການປິ່ນປົວ workpiece ໄດ້.

• ● ເຄື່ອງສົ່ງລະບົບ Plasma
• ● ມັນສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງໃນສະພາບແວດລ້ອມການຜະລິດເພື່ອເຮັດຄວາມສະອາດແລະກະຕຸ້ນພື້ນຜິວຂອງຊິ້ນສ່ວນທີ່ມີຮູບຮ່າງແປກ
• ● ຫ້ອງສູນຍາກາດ

GZ ຕູ້ປ້ອງກັນຄວາມຊຸ່ມຊື່ນຕ່ໍາໄວໄດ້ຮັບຮອງເອົາໂມດູນ dehumidification ປັບປຸງໃຫມ່. ມັນສາມາດບັນລຸຄວາມຊຸ່ມຊື່ນຕ່ໍາກວ່າ 5%RH. ຜະລິດຕະພັນແມ່ນງ່າຍທີ່ຈະປະຕິບັດງານ. ມັນໄດ້ຖືກແນະນໍາໂດຍສະເພາະສໍາລັບທຸກປະເພດຂອງພາກສ່ວນເອເລັກໂຕຣນິກ, ກ້ອງຖ່າຍຮູບ, ກ້ອງຖ່າຍຮູບ, ເຄື່ອງມືຫ້ອງທົດລອງທົ່ວໄປ, ກ້ອງຈຸລະທັດ, ວັດສະດຸແລະສານເຄມີ, ແລະອື່ນໆເພື່ອປ້ອງກັນ mold ແລະ mildew.

ຕູ້ອົບແຫ້ງ ESD ເປັນເຄື່ອງມືທີ່ຈໍາເປັນໃນທຸກສະພາບແວດລ້ອມທີ່ອົງປະກອບເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ລະອຽດອ່ອນຖືກຈັດການ, ຮັບປະກັນຄວາມທົນທານແລະປະສິດທິພາບຂອງພວກເຂົາໂດຍການປົກປ້ອງພວກເຂົາຈາກຜົນກະທົບທີ່ອາດຈະເປັນອັນຕະລາຍຂອງໄຟຟ້າສະຖິດ. ພາຍໃນຕູ້ມັກຈະຖືກວາງດ້ວຍວັດສະດຸທີ່ປອດໄພຈາກ ESD, ເຊັ່ນ: ໂຟມຕ້ານສະຖິດ ຫຼື ຖັງຢາງປຼາສະຕິກທີ່ເປັນກະແສໄຟຟ້າ, ເພື່ອສ້າງການປົກປ້ອງເພີ່ມເຕີມສໍາລັບລາຍການທີ່ເກັບໄວ້.

ຕູ້ໄນໂຕຣເຈນສາມາດຊ່ວຍຄວບຄຸມການປົນເປື້ອນຈາກຝຸ່ນ, ອະນຸພາກ, ແລະສິ່ງສົກກະປົກອື່ນໆທີ່ສາມາດສົ່ງຜົນກະທົບຕໍ່ການປະຕິບັດແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງການຜະລິດ semicon ແລະເອເລັກໂຕຣນິກ. ສະພາບແວດລ້ອມໄນໂຕຣເຈນທີ່ສະອາດຮັກສາຄວາມບໍລິສຸດຂອງອົງປະກອບແລະຫນ້າດິນໃນລະຫວ່າງຂະບວນການຜະລິດ. ສໍາລັບບາງໂອກາດໃນຫ້ອງຮຽນ 100 (ISO 5) ສະພາບແວດລ້ອມຄວາມສະອາດ, ຕູ້ອົບສະແຕນເລດທີ່ເຮັດດ້ວຍກະຈົກເຕັມແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອເກັບຮັກສາອົງປະກອບແລະເຄື່ອງມືທີ່ຊັດເຈນ.

ຕູ້ໄນໂຕຣເຈນສະແຕນເລດເປັນການແກ້ໄຂການເກັບຮັກສາພິເສດທີ່ຖືກອອກແບບມາເພື່ອປົກປ້ອງອົງປະກອບແລະວັດສະດຸທີ່ອ່ອນໄຫວຈາກການຜຸພັງແລະຄວາມຊຸ່ມຊື່ນໂດຍການຮັກສາບັນຍາກາດໄນໂຕຣເຈນທີ່ບໍ່ມີປະໂຫຍດ. ຕູ້ສະແຕນເລດແມ່ນຜະລິດຈາກສະແຕນເລດ 304 ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງ, ເຊິ່ງສະຫນອງການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ທີ່ດີເລີດແລະງ່າຍຕໍ່ການເຮັດຄວາມສະອາດ. ການສໍາເລັດຮູບ mirrored ບໍ່ພຽງແຕ່ສະຫນອງຮູບລັກສະນະທີ່ທັນສະໄຫມ, ແຕ່ຍັງອໍານວຍຄວາມສະດວກໃນການທໍາຄວາມສະອາດແລະການບໍາລຸງຮັກສາ. ການສໍາເລັດຮູບພື້ນຜິວທີ່ສູງແລະລັກສະນະທໍາຄວາມສະອາດງ່າຍຂອງຕູ້ເຫຼົ່ານີ້ເຮັດໃຫ້ພວກເຂົາເຫມາະສົມກັບສະພາບແວດລ້ອມຫ້ອງທີ່ສະອາດ, ບາງແບບເຖິງແມ່ນບັນລຸມາດຕະຖານຄວາມສະອາດຂອງ Class 100.

ຕູ້ໄນໂຕຣເຈນສະແຕນເລດແມ່ນໃຊ້ທົ່ວໄປໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor, photonics ແລະ FPD, ການເກັບຮັກສາວັດສະດຸພິເສດແລະຂະແຫນງການເອເລັກໂຕຣນິກເພື່ອປ້ອງກັນການຜຸພັງ, ການໂຈມຕີຂອງອົງການຈັດຕັ້ງຕ່າງປະເທດແລະການຄວບຄຸມຄວາມຊຸ່ມຊື່ນໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ສະອາດ.

ຕູ້ໄດ້ຖືກອອກແບບສໍາລັບການໂຫຼດສູງສຸດແລະຄວາມທົນທານ, ຕູ້ໄນໂຕຣເຈນສະແຕນເລດຖືກຕິດຕັ້ງດ້ວຍຊ່ອງໃສ່ໄນໂຕຣເຈນເພື່ອເຮັດຄວາມສະອາດພື້ນທີ່ເຮັດວຽກ, ເພື່ອປ້ອງກັນລາຍການເກັບຮັກສາຈາກການຖືກ oxidized, ຕູ້ແຫ້ງ N2 ທັງຫມົດແມ່ນເຮັດໂດຍ SUS # 304.

ໂດຍການຮັກສາລະດັບຄວາມຊຸ່ມຊື່ນຕ່ໍາ, ຕູ້ໄນໂຕຣເຈນຊ່ວຍຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຊຸ່ມຊື່ນໃນລະຫວ່າງການເກັບຮັກສາແລະການປຸງແຕ່ງອົງປະກອບ IC. ມັນສາມາດປັບປຸງຄຸນນະພາບຮ່ວມກັນຂອງ solder ໂດຍການຫຼຸດຜ່ອນການຜຸພັງແລະການຮັບປະກັນການເຊື່ອມຕໍ່ທີ່ສະອາດ, ເຊື່ອຖືໄດ້. ນີ້ແມ່ນສິ່ງສໍາຄັນສໍາລັບການປ້ອງກັນການກັດກ່ອນ, delamination, ຫຼືຂໍ້ບົກພ່ອງທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບຄວາມຊຸ່ມຊື່ນອື່ນໆທີ່ສາມາດສົ່ງຜົນກະທົບຕໍ່ຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືຂອງຊຸດ IC.

• ● ຊ່ວງຄວາມຊຸ່ມຊື່ນ: 1-60%RH
• ● ຄວາມຈຸ: 500/1020/1250/1510ລິດ
• ● ESD ປອດໄພ