Halbautomatischer Schnellwärmebehandlungsofen

Das GZ-RTP-SM-12 ist ein halbautomatisches, vertikales Schnellthermoverfahren. Es nutzt hochintensive sichtbare Strahlung, um einzelne Wafer/Proben mit einem Durchmesser von 4 bis 12 Zoll für kurze Prozesszeiten bei präzise gesteuerten Temperaturen zu erhitzen. Die Prozesszeiten betragen typischerweise 1 bis 600 Sekunden, wobei auch Zeiträume bis zu 9999 Sekunden wählbar sind. Diese Eigenschaften, kombiniert mit der Kaltwandkonstruktion der Heizkammer und der hervorragenden Heizgleichmäßigkeit, bieten deutliche Vorteile gegenüber herkömmlichen Ofenverfahren.

1. Hochintensive Halogenlampenheizung mit sichtbarer Strahlung für schnelle Aufheizraten
2. Streulicht in Infrarot durch eine spezielle, vergoldete Aluminiumkammeroberfläche
3. Fortschrittliches Softwarepaket mit Echtzeit-Steuerungstechnologien und vielen nützlichen Funktionen
4. Atmosphärische oder Vakuumbedingungen sind verschließbar
5. Standardmäßig zwei Gasleitungen, erweiterbar auf bis zu sechs Gasleitungen mit MFCs und Absperrventilen.
6. Kühlender Stickstoff (oder CDA) strömt um die Lampen und das Quarzisolationsrohr, um schnelle Kühlraten zu erzielen.
7. Um die Sicherheit des Geräts zu gewährleisten, werden drei Sicherheitsmaßnahmen angewendet: Schutz vor Türöffnung, Schutz vor Thermostatöffnung und Not-Aus-Schutz.
8.Max. 12-Zoll-Wafer (300*300mm)

■ Schnelles thermisches Ausheilen (RTA)
■ Oxid-, Nitridwachstum
■ Arsenisierungsprozess
■ Implantatglühen
■ Ohmsche Kontaktglühung (III-V und SiC)
■ Schnelle thermische Oxidation (RTO)
■ Schnelle thermische Nitrierung (RTN)
■ Selenisierung (CIGS-Solarzellen)
■ CVD von Graphen und h-BN (hexagonales Bornitrid)
■ Thermisches Tempern von Polymeren usw.