Horno de gas inerte

El armario de almacenamiento al vacío se utiliza para conservar productos que requieren protección contra la oxidación durante su almacenamiento. También puede sustituir al envasado al vacío. Este armario consta de 6 o 9 cámaras independientes y un panel de control; su distribución general se muestra en la siguiente figura. Las cámaras de vacío se controlan de forma independiente y comparten un sistema de vacío.

Adecuado para el curado de obleas semiconductoras (fotorresistente PI, PBO, curado BCB), horneado de sustratos de vidrio y tratamiento de recocido de alta precisión, etc.

Temperatura máxima de funcionamiento: 360 ℃, 600 ℃.
Concentración de oxígeno inferior a 20 ppm.

Los hornos de gas inerte de GMS están diseñados para ofrecer durabilidad y rendimiento. Son ideales para aplicaciones industriales que implican el procesamiento de materiales en atmósfera controlada, como el secado por humedad, el secado de obleas, el curado de epoxi y el envejecimiento de componentes y dispositivos electrónicos. El horno de gas inerte de GMS utiliza un sistema de recirculación de aire horizontal de alto volumen que maximiza la uniformidad de la temperatura y el rendimiento.

Garantice un calentamiento eficaz y proteja sus muestras de la oxidación con la selección de hornos de gas inerte de GMS. Realice pruebas de temperatura y tratamientos térmicos con total confianza en un entorno no oxidante gracias a los hornos de gas inerte que suministran N2 controlable y no inflamable dentro de la cámara.