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Forno a gas inerte

Forno a gas inerte

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Forno a gas inerte ad altissima temperatura...Forno a gas inerte ad altissima temperatura...
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Forno a gas inerte ad altissima temperatura...

14/03/2026

Questo forno di precisione per il trattamento termico di debinding in atmosfera controllata è un'innovativa apparecchiatura di cottura frutto della ricerca e sviluppo, progettata specificamente per superare il collo di bottiglia tecnico del processo di "sgrassaggio" nella produzione di ceramiche di alta gamma. Crea un ambiente di trattamento termico altamente controllabile per garantire la rimozione sicura, completa e senza danni dei supporti organici all'interno dei corpi ceramici grezzi prima che entrino nella fase di sinterizzazione. È un'apparecchiatura di pre-processo fondamentale per garantire la qualità e la resa della sinterizzazione di componenti ceramici di alta gamma.

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Armadio sottovuoto multi-spazio Sp...Armadio sottovuoto multi-spazio Sp...
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Armadio sottovuoto multi-spazio Sp...

18/07/2025

L'armadio sottovuoto viene utilizzato per conservare prodotti che necessitano di evitare l'ossidazione durante lo stoccaggio. Può anche sostituire il confezionamento sottovuoto tradizionale. Questo armadio sottovuoto è composto da 6 o 9 scomparti indipendenti e da un pannello di controllo; la disposizione generale è mostrata nella figura seguente. Gli scomparti sottovuoto sono controllati in modo indipendente e condividono un unico sistema di vuoto.

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Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...
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Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...

15/07/2025

Adatto per la polimerizzazione di wafer di semiconduttori (polimerizzazione di fotoresist PI, PBO, BCB), la cottura di substrati di vetro e trattamenti di ricottura di alta precisione, ecc.

Temperatura massima di esercizio: 360℃, 600℃.
Concentrazione di ossigeno inferiore a 20 ppm.

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Forno a gas inerte (anaerobico)Forno a gas inerte (anaerobico)
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Forno a gas inerte (anaerobico)

2025-07-10

I forni a gas inerte GMS sono progettati per garantire durata e prestazioni elevate. Sono ideali per applicazioni industriali che prevedono la lavorazione di materiali in un ambiente ad atmosfera controllata, come l'essiccazione dell'umidità, l'essiccazione di wafer, la polimerizzazione di resine epossidiche e l'invecchiamento di componenti e dispositivi elettronici. Il forno a gas inerte GMS utilizza un sistema di ricircolo dell'aria orizzontale ad alto volume che massimizza l'uniformità della temperatura e le prestazioni.

Garantisci un riscaldamento efficace e proteggi i campioni dall'ossidazione con la gamma di forni a gas inerte di GMS. Esegui con sicurezza test di temperatura e trattamenti termici in un ambiente non ossidante grazie ai forni a gas inerte che forniscono azoto (N2) controllabile e non infiammabile all'interno della camera.

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Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...
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Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...

26/06/2024

I forni a gas inerte ad altissima temperatura sono apparecchiature fondamentali nei settori industriali in cui è richiesto il trattamento ad alta temperatura in atmosfera inerte, garantendo la qualità e l'integrità dei materiali lavorati. Sono adatti per atmosfere di gas inerti come argon, anidride carbonica, elio e azoto. Gli elementi riscaldanti a filo di nichelcromo di grosso spessore, installati all'aria aperta, forniscono una robusta fonte di calore fino a 600 gradi. L'esclusivo design a doppia parete consente la circolazione del refrigerante e dell'aria ambiente attorno a una camera interna riempita di gas inerte, mantenendo stabili la pressione e la temperatura interne.

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Forno di polimerizzazione a gas inerte (anaerobico)Forno di polimerizzazione a gas inerte (anaerobico)
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Forno di polimerizzazione a gas inerte (anaerobico)

26/06/2024

I forni a gas inerte sono ideali per applicazioni industriali che prevedono la lavorazione di materiali in un ambiente ad atmosfera controllata, tra cui l'essiccazione dell'umidità, l'essiccazione dei wafer, la polimerizzazione delle resine per il confezionamento dei semiconduttori e l'invecchiamento di componenti e dispositivi elettronici.

● Tipologie a 1 o 2 camere (controllo indipendente per ciascuna camera)
● Max. 260℃
●Concentrazione di O2 inferiore a 50 ppm

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Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...
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Inerte ad altissima temperatura (anaerobico...

2024-06-06

Adatto per la polimerizzazione di wafer di semiconduttori (polimerizzazione di fotoresist PI, PBO, BCB), la cottura di substrati di vetro e trattamenti di ricottura di alta precisione, ecc.

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