Forno a gas inerte

L'armadio di stoccaggio sottovuoto viene utilizzato per conservare prodotti che necessitano di evitare l'ossidazione durante la conservazione. Può anche sostituire il confezionamento sottovuoto. Questo armadio di stoccaggio sottovuoto è composto da 6 o 9 camere indipendenti e un pannello di controllo; la disposizione generale è mostrata nella figura seguente. Le camere del vuoto sono controllate in modo indipendente e condividono un sistema di vuoto.

Adatto per la polimerizzazione di wafer semiconduttori (polimerizzazione con fotoresist PI, PBO, BCB), cottura di substrati di vetro e trattamento di ricottura ad alta precisione, ecc.

Temperatura massima di esercizio: 360℃, 600℃.
Concentrazione di ossigeno inferiore a 20 ppm.

I forni a gas inerte GMS sono progettati per garantire durata e prestazioni elevate. Sono ideali per applicazioni industriali che prevedono la lavorazione di materiali in atmosfera controllata, tra cui essiccazione a umido, essiccazione di wafer, polimerizzazione epossidica e invecchiamento di componenti e dispositivi elettronici. Il forno a gas inerte GMS utilizza un sistema di ricircolo dell'aria orizzontale ad alto volume che massimizza l'uniformità della temperatura e le prestazioni.

Garantisci un riscaldamento efficace proteggendo i campioni dall'ossidazione con la selezione di forni a gas inerte di GMS. Esegui con sicurezza test di temperatura e trattamenti termici in un ambiente non ossidante con forni a gas inerte che forniscono N2 controllabile e non infiammabile all'interno della camera.