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Forno a gas inerte (anaerobico) ad altissima temperatura
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Forno a gas inerte (anaerobico) ad altissima temperatura

Adatto per la polimerizzazione di wafer semiconduttori (polimerizzazione con fotoresist PI, PBO, BCB), cottura di substrati di vetro e trattamento di ricottura ad alta precisione, ecc.

  • Temperatura massima di esercizio: 360℃, 600℃.
  • Concentrazione di ossigeno inferiore a: 20 ppm

CARATTERISTICHEprodotto

Il forno anaerobico ad altissima temperatura utilizza una struttura della camera e una tecnologia di tenuta proprietarie, con un'eccellente uniformità di temperatura, garantendo al contempo maggiore stabilità e riproducibilità. Allo stesso tempo, il meccanismo di raffreddamento esterno, che circola tramite l'acqua di raffreddamento, può raffreddarsi rapidamente senza influire sull'atmosfera del forno, riducendo così i tempi di trattamento.

● Approvato per gas inerti come argon, anidride carbonica, elio e azoto.

● L'esclusiva camera interna/esterna consente all'aria ambiente refrigerante di circolare attorno a una camera interna con gas inerte.

● Porta raffreddata ad acqua con guarnizione in silicone.

● La temperatura può aumentare o diminuire rapidamente e la velocità di aumento o diminuzione può essere regolabile.

● La costruzione interamente saldata e sigillata garantisce una perdita d'aria costantemente bassa.

● Interno in acciaio inossidabile (tipo 304) resistente alla corrosione.

● Sistema di spurgo del gas inerte regolabile, comprensivo di misuratore di portata e collegamento di alimentazione.

● Isolamento in fibra di vetro per garantire una temperatura superficiale sicura all'interno dell'armadio.

● Protezione indipendente contro la sovratemperatura.

● Interruttore automatico di protezione da guasti a terra di serie.

● Il sistema di ricircolo dell'aria orizzontale ad alto volume e il sistema di riscaldamento elettrico consentono la massima uniformità della temperatura nelle prestazioni.

● Eccellenti valutazioni di affidabilità e prestazioni.

Parametriprodotto

Modello

GZ-OXY-500C-A

GZ-OXY-500C-B

Intervallo di temperatura

Temperatura ambiente +100~600°C

Precisione del controllo

+/- 1,0°C

Precisione della distribuzione della temperatura

±1,5%°C (carico vuoto)

Temp. Tempo di salita

Circa 60 minuti (temperatura ambiente →550°C). camera vuota

Velocità di raffreddamento

Circa 60 min (550°C→80°C). camera vuota

Funzione operativa

Opzionale per funzionamento a temperatura fissa o programmato

Dimensioni interne AxLxP

500x500x500(mm)

600x600x600(mm)

Dimensioni esterne AxLxP

1840x1200x1000 (mm)

1850x1300x1100(mm)

Capacità dello spazio di lavoro

125 litri

216L

Sistema di raffreddamento

Sistema di raffreddamento ad acqua

Opzioniprodotto

Registratori di temperatura (cartacei o senza carta)6gj
Scaffali
Filtro HEPA
Registratori di temperatura (cartacei o senza carta)
Pompa per vuoto7w6
Controllore programmabile, comunicazioni Ethernet e USB
scaffali737
Imballaggio in camera bianca per spedizione e installazione
Comunicazioni Ethernet g7f
Registrazione dei dati e trend

Applicazioniprodotto

Industrieprodotto

■ Aerospaziale
■ Automobilistico
■ Difesa
■ Elettronica
■ Ricerca e sviluppo
■ Gomme e materie plastiche
■ Semiconduttori
■ Telecom
■ Comunicazione ottica

Personalizzazioneprodotto

GMS può fornire diversi livelli di uniformità, dimensioni e intervallo di temperatura; se avete una tolleranza o una specifica specifica che deve essere rispettata, contattateci con le vostre esigenze, così possiamo garantire che l'attrezzatura sia progettata, testata e regolata per soddisfare tali requisiti.

Personalizzazionegah

Servizioprodotto

GMS Industrial dispone di un team dedicato ai mercati, alle vendite, all'assistenza tecnica e alla rete per fornire a clienti e concessionari servizi completi di pre-vendita, assistenza e post-vendita. Potete contattarci per qualsiasi domanda o esigenza.
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