真空オーブンは、温度に敏感な製品から残留水、溶剤、その他の揮発性化合物を除去するのに最適です。基本的な動作原理は、オーブン内の圧力を下げる(真空状態を作る)ことで不要な分子を除去することです。オーブン内の圧力が汚染物質の目的の蒸気圧に達すると、これらの汚染物質分子は蒸発して蒸気になり、製品のあらゆる部分から除去されます。この乾燥は過剰な熱を使用せずに行われます。そのため、真空乾燥は、高温にさらされると損傷したり変化したりする材料に適しています。また、真空乾燥は、スケールや酸化残留物の形成のリスクを最小限に抑えます。真空高温オーブンは、通常、耐熱性がなく温度に敏感な製品に使用されます。このタイプのオーブンは、半導体、MEMS、電子機器分野で広く使用されています。