不活性ガス炉

この精密雰囲気保護型脱脂熱処理炉は、高級セラミック製造における「脱脂」工程の技術的なボトルネックを克服するために特別に開発された革新的な焼成装置です。焼結工程に入る前に、セラミック成形体内部の有機担体を安全かつ徹底的に、損傷なく除去するために、高度に制御可能な熱処理環境を作り出します。高級セラミック部品の焼結品質と歩留まりを保証するための重要な前処理装置です。

真空保管庫は、保管中に酸化を防ぐ必要がある製品の保管に使用されます。真空包装の代替としても使用できます。この真空保管庫は、6個または9個の独立したチャンバーと制御盤で構成されており、一般的なレイアウトは下図のとおりです。真空チャンバーはそれぞれ独立して制御され、1組の真空システムを共有します。

半導体ウェハーの硬化（フォトレジストPI、PBO、BCBの硬化）、ガラス基板のベーキング、高精度アニーリング処理などに適しています。

最大動作温度：360℃、600℃。
酸素濃度が20ppm未満。

GMS不活性ガスオーブンは、耐久性と性能を重視して設計されています。不活性ガスオーブンは、水分乾燥、ウェハー乾燥、エポキシ樹脂硬化、電子部品やデバイスの経年劣化など、制御された雰囲気下で材料を処理する産業用オーブン用途に最適です。GMS不活性ガスオーブンは、温度均一性と性能を最大限に高める大容量水平空気循環システムを採用しています。

GMSの不活性ガスオーブンを使用すれば、試料を酸化から保護しながら効果的な加熱を実現できます。チャンバー内に制御可能で不燃性の窒素ガスを供給する不活性ガスオーブンにより、酸化しない環境で安心して温度試験や熱処理を行うことができます。