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半自動急速熱処理炉
急速熱処理プロセス
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半自動急速熱処理炉

GZ-RTP-SM-12は、4~12インチの単一ウェーハの加熱に適用される半自動垂直急速熱処理システムです。
最高温度1250℃
最大4本のガス管

    特徴製品

    GZ-RTP-SM-12は、半自動垂直型急速熱処理システムです。高強度可視光線を用いて、4~12インチのウェハ/試料を1枚ずつ、正確に制御された温度で短時間加熱します。処理時間は通常1~600秒ですが、最大9999秒まで選択可能です。これらの機能に加え、加熱チャンバーのコールドウォール設計と優れた加熱均一性により、従来の炉処理に比べて大きな利点が得られます。

    1. 高速加熱を実現する高強度可視光ハロゲンランプ加熱
    2.特殊金メッキAlチャンバー表面による赤外線の散乱
    3.リアルタイム制御技術と多くの便利な機能を備えた高度なソフトウェアパッケージ
    4.大気または真空状態を閉鎖可能
    5.標準2本のガスライン、MFCと遮断弁を使用して最大6本のガスラインまで拡張可能
    6.冷却N2(またはCDA)はランプと石英隔離管の周囲を流れ、冷却速度を速める。
    7. ドア開放保護、サーモスタット開放権限保護、緊急停止保護の 3 重の安全対策を採用し、機器の安全性を確保します。
    8.最大12インチウエハ(300×300mm)

    パラメータ製品

    モデル

    GZ-RTP-SM-12

    最大製品サイズ

    12インチウエハー、300×300mm

    機器のサイズ

    長さ1050mm×幅1680mm×高さ2080mm

    温度範囲

    RT~~800℃(熱電対)

    800℃~1250℃(赤外線高温計)

    気温上昇

    ウェハの場合100℃/秒

    シリコンカーバイドキャリアディスクの場合20℃/秒

    温度均一性

    ±1%

    温度制御精度

    ±2℃

    加熱時間

    プログラムによると

    特殊金メッキAlチャンバー表面

    真空チャンバー

    高純度石英チャンバー

    ブラケット

    クォーツブラケット

    パソコン

    12.5インチPC(ソフトウェア付き)

    ヒータ

    ハロゲンランプ

    MFC

    GN2/PN2(4本のガスラインまで拡張可能)

    オプション製品

    チラー15台
    チラー
    真空ポンプjqk
    真空ポンプ
    真空ゲージユ
    真空計
    MFC0wy
    MFC
    パイロメーターhf3
    高温計

    アプリケーション製品

    ■ 急速熱アニール(RTA)
    ■ 酸化物、窒化物の成長
    ■ ヒ素化プロセス
    ■ インプラントのアニーリング
    ■ オーミックコンタクトアニール(III-V族およびSiC)
    ■ 急速熱酸化(RTO)
    ■ 急速熱窒化処理(RTN)
    ■セレン化(CIGS太陽電池)
    ■ グラフェンとh-BN(六方晶窒化ホウ素)のCVD
    ■ ポリマー等の熱アニール

    カスタマイズ製品

    GMS は、さまざまなレベルの均一性、サイズ、温度範囲、真空、自動機能を提供できます。特定の許容範囲または仕様を満たす必要がある場合は、その要件を当社にご連絡ください。当社は、それらの要件を満たすように機器を設計、テスト、調整します。

    カスタマイズgah

    サービス製品

    GMS Industrialは、市場、営業、技術サービス、ネットワークチームを擁し、お客様と販売店の皆様に包括的な販売前、販売中、アフターサービスをご提供いたします。ご質問やご要望がございましたら、お気軽にお問い合わせください。
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