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真空オーブン

真空オーブン

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枚葉式自動高真空オーブン枚葉式自動高真空オーブン
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枚葉式自動高真空オーブン

2025年7月31日

小型ベーキング装置。最高温度250℃、真空と窒素ガス機能の組み合わせにより無酸素雰囲気下でウェハ1枚を一括ベークできるため、小ロットアプリケーションに適しています。本システムの代表的な用途としては、SOGアニール、銅アニール、アルミニウムアニール、Low-k絶縁膜アニール、フォトレジストのベーキング、乾燥などがあります。

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高温真空オーブン高温真空オーブン
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高温真空オーブン

2025年7月15日

真空オーブンは、温度に敏感な製品から残留水、溶剤、その他の揮発性化合物を除去するのに最適です。基本的な動作原理は、オーブン内の圧力を下げる(真空状態を作る)ことで不要な分子を除去することです。オーブン内の圧力が汚染物質の目的の蒸気圧に達すると、これらの汚染物質分子は蒸発して蒸気になり、製品のあらゆる部分から除去されます。この乾燥は過剰な熱を使用せずに行われます。そのため、真空乾燥は、高温にさらされると損傷したり変化したりする材料に適しています。また、真空乾燥は、スケールや酸化残留物の形成のリスクを最小限に抑えます。真空高温オーブンは、通常、耐熱性がなく温度に敏感な製品に使用されます。このタイプのオーブンは、半導体、MEMS、電子機器分野で広く使用されています。

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超高真空オーブン超高真空オーブン
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超高真空オーブン

2025年6月5日

高真空オーブンは、最高300℃まで加熱可能な直接加熱式棚を備えています。高真空チャンバーは、ドライスクロールポンプ(オイルの逆流を心配する必要がない)を併用したターボポンプによって10-6 Torrまで容易に排気できます。加熱は非常に速いですが、冷却には時間がかかります(数時間)。チャンバー内部の過度な酸化を防ぐため、棚の温度が100℃を下回った時点でのみチャンバーを排気します。チャンバーは窒素で排気されます。窒素雰囲気下でサンプルを完全に室温まで冷却する必要がある場合は、部分的な排気も可能です。約11インチ×11インチ(280 mm×280 mm)の棚が2枚と、特注のアルミトレイが2枚あります。4インチウエハーを一度に8枚焼成できます。窓がないため、チャンバーに搬入する際にアルミホイルで包んでおけば、光に敏感な部品も焼成できます。

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高温真空乾燥炉高温真空乾燥炉
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高温真空乾燥炉

2024年6月26日
  • ● 真空乾燥により電極材料中の水分と溶剤を除去します。
  • ● 最高温度300℃/400℃はオプション
  • ●動作真空範囲101kPa -1Pa●3サイズ展開、大容量
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高温真空乾燥炉高温真空乾燥炉
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高温真空乾燥炉

2024年6月26日

あらゆる種類の真空乾燥目的に設計された大型真空乾燥オーブン。

  • ● 最高温度250℃
  • ● 動作真空範囲 101kPa -0.1kPa

このオーブンは、温度に敏感な製品から残留水分、溶剤、その他の揮発性化合物を除去するのに最適です。真空ポンプはオーブンの下部に設置され、クイック接続フランジ配管により設置スペースを節約できます。このタイプのオーブンは、研究室、半導体、MEMS、電子機器分野で広く使用されています。

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高真空保管キャビネット高真空保管キャビネット
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高真空保管キャビネット

2024年6月26日

9つのチャンバーは独立して制御され、1つの真空システムを共有しています。あらゆる種類の金属材料、嫌気性、化学原料、貴金属、金属粉末、その他の固体、粉末、ペースト、液体、電子製品に適しています。

 

  • ● 9チャンバースタンドアロンコントロール
  • ●電子デバイス、光電子デバイス、半導体チップなどの製造工程中に製品を一時的に保管し、酸化を防ぐ
  • ● 最小50~5*10-5Paの真空
  • ● 製品情報を保存するためのバーコードスキャナー
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