Forno para sala limpa
0102030405
01 ver detalhes
Forno vertical para sala limpa
2025-10-16
Descrição do produto
Estufas limpas são amplamente utilizadas no tratamento térmico ou secagem de wafers semicondutores, cristais líquidos, discos e outros componentes e dispositivos que requerem condições de ar limpo.
- Classe 100
- 350L de grande capacidade
- temperatura 260℃
02 ver detalhes
Forno vertical de limpeza com grande capacidade de 350 litros
26/06/2024
Estufas limpas são amplamente utilizadas no tratamento térmico ou secagem de wafers semicondutores, cristais líquidos, discos e outros componentes e dispositivos que requerem condições de ar limpo.
- ● Classe 100
- ● Grande capacidade de 350 litros
- ● Temperatura máxima 260℃