Forno a vácuo
Forno automático de alto vácuo para wafer único
Equipamento de cozimento compacto, com temperatura máxima de 250 °C, que utiliza vácuo e nitrogênio combinados para criar um ambiente livre de oxigênio, permitindo o cozimento de um único wafer por vez, ideal para aplicações em pequenos lotes. Aplicações típicas deste sistema incluem recozimento de SOG, cobre, alumínio, dielétricos de baixa constante dielétrica (low-k), secagem e cozimento de fotorresistente, entre outros.
Forno a vácuo de alta temperatura
Estufas a vácuo são ideais para remover água residual, solventes ou outros compostos voláteis de produtos sensíveis à temperatura. O princípio de funcionamento consiste, essencialmente, em remover moléculas indesejadas reduzindo a pressão dentro da estufa (criando vácuo). Quando a pressão na estufa atinge a pressão de vapor desejada para os contaminantes, essas moléculas evaporam, transformam-se em vapor e são removidas de todas as partes do produto. Essa secagem é realizada sem o uso de calor excessivo. Isso torna a secagem a vácuo adequada para materiais que se danificam ou se alteram quando expostos a altas temperaturas. A secagem a vácuo também minimiza o risco de incrustações e a formação de resíduos de oxidação. Estufas a vácuo de alta temperatura são normalmente utilizadas para produtos que não são resistentes ao calor e são sensíveis à temperatura. Esse tipo de estufa é amplamente utilizado nas áreas de semicondutores, MEMS e eletrônica.
Forno de ultra alto vácuo
A estufa de alto vácuo possui prateleiras com aquecimento direto que podem ser programadas para aquecer até 300 °C. A câmara de alto vácuo pode facilmente atingir 10⁻⁶ Torr, graças a uma bomba turboalimentada com o auxílio de uma bomba de vácuo de espiral seca (sem risco de refluxo de óleo). Embora o aquecimento seja muito rápido, o processo de resfriamento pode ser lento (várias horas). Para preservar as superfícies internas da oxidação excessiva, a câmara só pode ser ventilada quando a temperatura das prateleiras cair abaixo de 100 °C. A ventilação da câmara é feita com nitrogênio. Uma ventilação parcial é possível caso seja necessário permitir que a amostra esfrie completamente até a temperatura ambiente em atmosfera de nitrogênio. Há duas prateleiras de aproximadamente 280 mm x 280 mm (11" x 11") e duas bandejas de alumínio feitas sob medida. A estufa comporta oito wafers de 10 cm (4") por vez. Não há janelas, portanto, peças fotossensíveis podem ser aquecidas, desde que sejam embrulhadas em papel alumínio antes de entrarem na câmara.
Estufa de secagem a vácuo de alta temperatura
- ● Secagem a vácuo para remover a umidade e o solvente dos materiais do eletrodo.
- ● Temperatura máxima de 300℃/400℃ (opcional)
- ● Faixa de vácuo operacional de 101 kPa a 1 Pa ● Disponível em 3 tamanhos, grande capacidade
Estufa de secagem a vácuo de alta temperatura
Estufa de secagem a vácuo de grandes dimensões, projetada para todos os tipos de secagem a vácuo.
- ● Temperatura máxima 250℃
- ● Faixa de vácuo operacional: 101 kPa - 0,1 kPa
Este forno é ideal para remover água residual, solventes ou outros compostos voláteis de produtos sensíveis à temperatura. A bomba de vácuo será instalada na parte inferior do forno para economizar espaço de instalação, com tubulação de flange de conexão rápida. Este tipo de forno é amplamente utilizado em laboratórios, na indústria de semicondutores, MEMS e eletrônica.
Armário de armazenamento a vácuo de alta potência
As 9 câmaras são controladas independentemente e compartilham um único sistema de vácuo. É adequado para todos os tipos de materiais metálicos, anaeróbicos, matérias-primas químicas, metais preciosos, pó metálico e outros sólidos, pós, pastas, líquidos e produtos eletrônicos.
- ● Controle independente de 9 câmaras
- ● Armazenar temporariamente os produtos durante o processo de produção de dispositivos eletrônicos, dispositivos optoeletrônicos, chips semicondutores e outros dispositivos para evitar a oxidação.
- ● Vácuo mínimo de 50 a 5*10-5Pa
- ● Leitor de código de barras para armazenar informações do produto