Очиститель плазмы

Оборудование в основном состоит из вакуумной камеры и источника высокочастотного плазменного питания, вакуумной системы, системы нагнетания воздуха, системы автоматического управления и других частей. Основной принцип работы заключается в следующем: в вакуумном состоянии с помощью вакуумных насосов создается вакуум в камере до 0,15-0,3 мбар, затем высокочастотный генератор ионизирует газ, образуя плазму (четвертое состояние вещества), после чего плазма используется для обработки поверхности обрабатываемой детали.

• ● Плазменная система для обработки материалов
• ● Может постоянно использоваться в производственных условиях для очистки и активации поверхности деталей неправильной формы.
• ● Вакуумная камера