Плазменный очиститель

Оборудование состоит в основном из вакуумной камеры, высокочастотного источника питания плазмы, вакуумной системы, системы нагнетания воздуха, системы автоматического управления и других компонентов. Основной принцип работы заключается в создании вакуума с помощью вакуумных насосов для создания вакуума в помещении до 0,15–0,3 мбар. Затем, используя высокочастотный генератор, газ ионизируется, образуя плазму (четвертое агрегатное состояние вещества), и затем воздействует на поверхность заготовки.

• ● Плазменная система подачи машины
• ● Его можно постоянно использовать в производственных условиях для очистки и активации поверхности деталей сложной формы.
• ● Вакуумная камера