เตาอบแปรรูปความร้อนอย่างรวดเร็วแบบกึ่งอัตโนมัติ

GZ-RTP-SM-12 เป็นระบบการประมวลผลความร้อนอย่างรวดเร็วแบบแนวตั้งกึ่งอัตโนมัติ ระบบนี้ใช้รังสีแสงที่มองเห็นได้ความเข้มสูงเพื่อให้ความร้อนแก่แผ่นเวเฟอร์/ชิ้นงานขนาด 4-12 นิ้วเพียงชิ้นเดียวในช่วงเวลาการประมวลผลสั้นๆ ที่อุณหภูมิที่ควบคุมได้อย่างแม่นยำ โดยทั่วไปแล้วช่วงเวลาการประมวลผลจะอยู่ที่ 1-600 วินาที แต่สามารถเลือกช่วงเวลาได้นานถึง 9999 วินาที ความสามารถเหล่านี้ เมื่อรวมกับการออกแบบผนังเย็นของห้องให้ความร้อนและความสม่ำเสมอของความร้อนที่เหนือกว่า จะให้ข้อได้เปรียบที่สำคัญเหนือกว่าการประมวลผลด้วยเตาเผาแบบดั้งเดิม

1. การให้ความร้อนด้วยหลอดฮาโลเจนที่มีความเข้มแสงที่มองเห็นได้สูง เพื่ออัตราการให้ความร้อนที่รวดเร็ว
2. แสงอินฟราเรดที่กระจายตัวโดยพื้นผิวห้องอลูมิเนียมชุบทองพิเศษ
3. ชุดซอฟต์แวร์ขั้นสูงพร้อมเทคโนโลยีควบคุมแบบเรียลไทม์และฟังก์ชันที่มีประโยชน์มากมาย
4. สามารถปิดสภาวะบรรยากาศหรือสุญญากาศได้
5. ระบบท่อส่งก๊าซมาตรฐาน 2 ท่อ สามารถขยายได้สูงสุดถึง 6 ท่อ โดยใช้ MFC และวาล์วปิด
6. ก๊าซไนโตรเจน (หรือ CDA) ไหลวนรอบหลอดไฟและท่อฉนวนควอตซ์เพื่อระบายความร้อนอย่างรวดเร็ว
7. ใช้มาตรการความปลอดภัยสามชั้น ได้แก่ การป้องกันการเปิดประตู การป้องกันการเปิดประตูเทอร์โมสตัทโดยไม่ได้รับอนุญาต และการป้องกันการหยุดฉุกเฉิน เพื่อให้มั่นใจในความปลอดภัยของอุปกรณ์
8. ขนาดเวเฟอร์สูงสุด 12 นิ้ว (300*300 มม.)

■ การอบอ่อนด้วยความร้อนอย่างรวดเร็ว (RTA)
■ การเจริญเติบโตของออกไซด์และไนไตรด์
■ กระบวนการอาร์เซไนเซชัน
■ การอบอ่อนของรากเทียม
■ การอบอ่อนหน้าสัมผัสโอห์มิก (III-V และ SiC)
■ การออกซิเดชันด้วยความร้อนอย่างรวดเร็ว (Rapid Thermal Oxidation หรือ RTO)
■ กระบวนการไนไตรเดชันด้วยความร้อนอย่างรวดเร็ว (RTN)
■ กระบวนการเติมซีลีเนียม (เซลล์แสงอาทิตย์ CIGS)
■ การสังเคราะห์กราฟีนและ h-BN (ไนไตรด์โบรอนหกเหลี่ยม) ด้วยวิธี CVD
■ การอบอ่อนด้วยความร้อนของโพลิเมอร์ เป็นต้น